JSC Minsk Research Institute of Radiomaterials
eye Version for visually impaired
  • Search
eye
+375 (17) 270-96-06
  • Search
  • About

    • About us
    • Partners
    • Certificates, licenses
    • Personal data processing policy
    • Cookie policy
  • News

  • Scientific activity

    • Areas of applied research
    • Conferences, exhibitions, competitions
    • Publications, articles
  • Products

    • Element base and functional units of microwave technology

      • Protective devices
      • Frequency converters
      • Power amplifiers
      • Low-noise amplifiers
      • Pre-power amplifiers
      • Phase shifters
      • Attenuators
      • Switches
      • MOSFET capacitors
      • Frequency multipliers
      • Frequency dividers
      • Control drivers
      • Resistors
      • Power control circuits
    • Optoelectronic components, modules and systems
    • Intelligent sensor technology, modules and systems

      • Inductive non-contact switches
      • Tilt angle sensors
      • Electronic compasses
      • Rotation angle sensors
      • Defomation sensors
      • Vibration acceleration sensors
      • Heat flux sensors
      • Differential magnetic field sensor
      • Gas sensors
    • Monitoring systems
    • Meteorological equipment
    • Gas fittings
    • Medical products
    • Heating elements
    • Metrological scales
    • Unused equipment
  • Services

    • Contract manufacturing of electronics
    • Mechanical processing of metals
    • Application of powder and galvanic coatings
    • Plastic casting
    • Sale of equipment and inventory
    • Testing laboratory
    • Electrical laboratory
    • Laser engraving
    • Crane services
    • Sale of real estate
    • Rent of premises
  • Contacts

eye Version for visually impaired
+375 (17) 270-96-06
  • Main
  • /
  • Services
  • /
  • Проектирование и изготовление фотошаблонов для контактной и проекционной фотолитографии

Проектирование и изготовление фотошаблонов для контактной и проекционной фотолитографии

  • Contract manufacturing of electronics
  • Mechanical processing of metals
  • Application of powder and galvanic coatings
  • Plastic casting
  • Sale of equipment and inventory
  • Testing laboratory
  • Electrical laboratory
  • Laser engraving
  • Crane services
  • Sale of real estate
  • Rent of premises
Проектирование и изготовление фотошаблонов для контактной и проекционной фотолитографии

Отраслевая лаборатория проектирования и разработки фотошаблонов ОАО «МИНСКИЙ НИИ РАДИОМАТЕРИАЛОВ» выполняет полный цикл работ: проектирование фотошаблонов, разработка фотошаблонов и последующее изготовление на современном оборудовании — лазерном многоканальном генераторе изображений ЭМ-5189-02. Мы обеспечиваем производство фотошаблонов, соответствующих мировым стандартам SEMI Pxx, с минимальным элементом рисунка от 0,7 мкм и точностью совмещения до ±70 нм. Любой фотошаблон на заказ (фотошаблоны на заказ изготавливаются как единичными экземплярами, так и партиями) можно заказать по собственной конструкторской документации или с нуля — по эскизу и техническому заданию заказчика. Изготовление фотошаблонов на заказ занимает от одного рабочего дня, что позволяет оперативно закрывать потребности опытного и серийного производства.

Проектирование топологии и подготовка данных

Прежде чем приступить к изготовлению, наши специалисты выполняют следующие этапы: разработка топологии фотошаблона и проектирование топологии фотошаблона с учётом технологических норм заказчика. Возможно изготовление фотошаблона по топологии заказчика (готовый GDS/DXF/DWG-файл либо эскиз в формате PDF/DOCX), так и изготовление фотошаблона по топологии, разработанной нашими инженерами с нуля. В состав работ входит подготовка топологии для фотошаблона, подготовка данных для фотошаблона под конкретный генератор изображений, а также изготовление фотомасок по топологии с проверкой на технологичность и доведение фотошаблона до соответствия проектным нормам. Такой подход исключает ошибки на этапе перехода от электронной топологии к физическому шаблону.

Фотошаблоны для фотолитографии, микроэлектроники и полупроводниковых приборов

Мы производим фотошаблоны для контактной фотолитографии и фотошаблоны для проекционной фотолитографии, применяемые в производстве микросхем, схем функциональной электроники, тонкоплёночных, микрополосковых и СВЧ-плат. Изготовление фотошаблонов ведётся с учётом требований к стабильности рисунка во времени, высокой контрастности изображения и точности метрических размеров элементов.

Мы выполняем изготовление фотошаблонов любой степени сложности — от единичных тестовых образцов до комплектов шаблонов для серийного технологического процесса.

Фотошаблоны для печатных плат

Помимо фотошаблонов для полупроводникового производства, мы изготавливаем фотошаблоны для печатных  плат – выполняются в виде прецизионных стеклянных и кварцевых оригиналов. Изготовление фотошаблона печатной платы, выполняется под конкретный слой платы. Мы изготавливаем фотошаблоны для многослойных печатных плат с контролем стыковки полос и совмещения со смежными слоями.

Материалы подложек: кварц и стекло

Для прецизионных задач мы предлагаем кварцевые фотошаблоны. Фотошаблон на кварцевой подложке примечателен минимальным температурным расширением и подходит для самых жёстких допусков. Изготовление кварцевых фотошаблонов выполняется на подложках толщиной 2,2–6,4 мм и размерами 102–178 мм. Кварцевый фотошаблон для фотолитографии и кварцевый фотошаблон для микросхем — стандартное решение для проекционных степперов и сканеров.

Там, где требования к температурной стабильности ниже, применяются фотошаблоны на кальций-натрий-силикатном стекле (они же фотошаблоны на содово-известковом стекле) остаются экономичной альтернативой кварцу. В целом, фотошаблон на стеклянной подложке подходит для большинства задач фотолитографии. Изготовление стеклянных фотошаблонов у нас поставлено на поток и выполняется в короткие сроки (от одного рабочего дня).

Покрытия: хром, оксид хрома и оксид железа

Классический вариант — фотошаблон с хромовым покрытием. Изготовление хромовых фотошаблонов выполняется по слою металлического хрома с высокой оптической плотностью и стойкостью к истиранию при многократном контактном экспонировании.

Для снижения бликов, повышения точности фотолитографии и увеличения износостойкости используется фотошаблон с "тёмным"(низкоотражающим) хромом в качестве маскирующего покрытия, известный также как фотошаблон LRC (low reflective chrome). Фотошаблон с темным хромом состоит из слоя металлического хрома и низкоотражающего слоя. Фотошаблон  с "тёмным" хромом обеспечивает минимальный коэффициент отражения и максимальную контрастность рисунка при контроле совмещения.

Для ряда технологических процессов применяется фотошаблон с оксидом железа — железооксидный фотошаблон (железоокисный фотошаблон). Фотошаблон на железооксидной подложке востребован там, где требуется устойчивость к определённым травителям и растворителям фоторезиста, а также удобен в применении за счет полупрозрачной маски в видимом спектре. Изготовление железооксидных фотошаблонов, как и хромовых, выполняется на нашем оборудовании с полным контролем геометрии и оптической плотности рисунка.

Наши преимущества

  • Полный цикл на одной площадке. От разработки топологии и подготовки данных до изготовления готового изделия и выходного контроля — без передачи заказа сторонним подрядчикам.

  • Соответствие мировым стандартам SEMI Pxx. Точность метрических размеров элементов рисунка, стабильность рисунка во времени и высокая контрастность изображения подтверждены на практике.

  • Современное оборудование. Лазерный многоканальный генератор изображений ЭМ-5189-02 обеспечивает минимальный элемент рисунка от 0,7 мкм и точность совмещения до ±70 нм.

  • Любой тираж — от одного изделия. Берём в работу как единичные образцы для НИОКР и прототипирования, так и партии для серийного производства.

  • Короткие сроки. Изготовление фотошаблонов на заказ — от одного рабочего дня без потери в качестве и точности.

  • Широкая линейка материалов и покрытий. Кварцевые и стеклянные подложки, хром, тёмный/низкоотражающий/чёрный хром, оксид железа — подбираем решение под задачу и бюджет заказчика.

  • Отраслевой опыт и профильная экспертиза. ОАО «МИНСКИЙ НИИ РАДИОМАТЕРИАЛОВ» — научно-производственное предприятие с собственной Отраслевой лабораторией проектирования и разработки фотошаблонов.

  • Работа напрямую, без посредников. Прозрачное ценообразование и прямая коммуникация с инженерами на всех этапах — от технического задания до отгрузки готового фотошаблона.

Цена и как заказать фотошаблон

Стоимость фотошаблона зависит от материала подложки (кварц, стекло), типа покрытия (хром, тёмный/низкоотражающий/чёрный хром, оксид железа), размеров, минимального элемента рисунка, тиража, размеров рабочего поля и дефектности. Поэтому цена на изготовление фотошаблона рассчитываются индивидуально под каждый проект после получения топологии или технического задания. Чтобы уточнить стоимость фотошаблона и сроки, свяжитесь с нами по телефонам +375 17 270-96-15, +375 33 333-95-22  (пн–пт, 8:20–17:00) или по электронной почте marketing@mniirm.by.


Заказать фотошаблон в ОАО «МИНСКИЙ НИИ РАДИОМАТЕРИАЛОВ» — значит получить полный цикл услуг: от проектирования топологии до изготовления готового прецизионного шаблона на кварцевой или стеклянной подложке с нужным типом покрытия, в сроки от одного рабочего дня.



Back

Address:

220024, Republic of Belarus, Minsk,
86-2 Leytenant Kizhevatov Street

Working hours:

Mon–Fri: 8:20–17:00

Phone:

+375 (17) 270-96-06

E-mail:

mniirm@mniirm.by
  • Site map
  • Personal data processing policy
  • Cookie policy
  • Site search
© 2025, JSC “Minsk Research Institute of Radio Materials”
Вверх

This website uses cookies to personalize services and improve your browsing experience. Cookies are small files that store information about your previous visits to the website. Manage settings