Development and manufacturing of sensitive elements and MEMS sensors

Специалисты ОАО "МИНСКИЙ НИИ РАДИОМАТЕРИАЛОВ" могут провести ОКР/НИР в области разработки различных МЭМС-датчиков

При разработке и изготовлении чувствительных элементов - основы интеллектуальных датчиков - используются современные технологии микромеханики:

• глубокое анизотропное и изотропное химическое травление кремния;
• прецизионное травление кремния;
• сварка «кремний-стекло»;
• технология создания высоколегированных р+ слоёв с концентрацией 10²¹см^-3 как стоп-слоёв при создании мембран;
• технология соединения деталей МЭМС датчиков с помощью легкоплавкого стекла.

Указанные технологии используются при создании:

• датчиков ускорения до 10g компенсационного типа;
• датчиков угла наклона с погрешностью ±10 сек в диапазоне ±10˚;
• датчиков давления с погрешностью 0,08%;
• химических датчиков для определения Н2 и СО на уровне единиц ррm с мощностью потребления ≤ 10 мвт.

ОАО «МИНСКИЙ НИИ РАДИОМАТЕРИАЛОВ» располагает современной технологической и производственной базой необходимой для проведения процесса 2-х сторонней фотолитографии на пластинах Ø76мм и Ø100мм, включая проведение всех сопутствующих операций связанных с процессом. А также имеет возможность и опыт применения 2-х сторонней фотолитографии для создания топологии различного уровня сложности, при изготовлении 2-х сторонних печатных плат.

Для оперативного решения возникающих вопросов организационного порядка Ваши специалисты могут в отдел маркетинга и снабжения ,тел.+375 (17) 270-96-25, моб.тел. +375 (33) 333-95-22, электронная почта marketing@mniirm.by

Back