Проектирование и изготовление фотошаблонов для проекционной фотолитографии

В ОАО "МИНСКИЙ НИИ РАДИОМАТЕРИАЛОВ" организована Отраслевая лаборатория проектирования и разработки фотошаблонов, которая позволяет производить продукцию, соответствующую мировым стандартам SEMI Pxx в кратчайшие сроки.
Фотошаблоны применяются для оптической или контактной фотолитографии при производстве микросхем, схем функциональной электроники, тонкоплёночных, микрополосковых и СВЧ плат.

ТИПЫ ПОКРЫТИЙ:
покрытия.png

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ:

Минимальный размер элемента	0,7 мкм
Толщина	от 2,2 до 6,4 мм
Габаритные размеры заготовок	102 (4"), 127 (5"), 152 (6"), 178 (7") мм
Неровность края элемента	не более 0,3 мкм
Скругление угла элемента	не более 0,5 мкм
Погрешность стыковки полос	не более ±40 нм
Погрешность совмещения	не более ±70 нм
Материал подложки	стекло К8, кварц

Прецизионные фотошаблоны изготавливаются на современном оборудовании (генераторе изображений лазерном многоканальном ЭМ-5189-02), обладают высокой точностью неометрических размеров элементов рисунка и шага между фрагментами, стабильностью рисунка и его размеров с течением времени, высокой контрастностью изображения.

МЫ ПРЕДЛАГАЕМ ПОЛНЫЙ ЦИКЛ ПРОИЗВОДСТВА:

НАШИ ПРЕИМУЩЕСТВА:

Возможность исполнения индивидуальных заказов от 1 изделия;
Сжатые сроки выполнения работ - оперативное согласование и доработка чертежей, текущее консультирование. Чертежи принимаются в формате, определяемом Заказчиком;
Изготовление 1 фотошаблона в срок от 1 рабочего дня;
Выполнение всего комплекса работ: от проектирования изделия до его изготовления.

Вернуться