Проектирование и изготовление фотошаблонов для контактной и проекционной фотолитографии

Отраслевая лаборатория проектирования и разработки фотошаблонов ОАО «МИНСКИЙ НИИ РАДИОМАТЕРИАЛОВ» выполняет полный цикл работ: проектирование фотошаблонов, разработка фотошаблонов и последующее изготовление на современном оборудовании — лазерном многоканальном генераторе изображений ЭМ-5189-02. Мы обеспечиваем производство фотошаблонов, соответствующих мировым стандартам SEMI Pxx, с минимальным элементом рисунка от 0,7 мкм и точностью совмещения до ±70 нм. Любой фотошаблон на заказ (фотошаблоны на заказ изготавливаются как единичными экземплярами, так и партиями) можно заказать по собственной конструкторской документации или с нуля — по эскизу и техническому заданию заказчика. Изготовление фотошаблонов на заказ занимает от одного рабочего дня, что позволяет оперативно закрывать потребности опытного и серийного производства.

Проектирование топологии и подготовка данных

Прежде чем приступить к изготовлению, наши специалисты выполняют следующие этапы: разработка топологии фотошаблона и проектирование топологии фотошаблона с учётом технологических норм заказчика. Возможно изготовление фотошаблона по топологии заказчика (готовый GDS/DXF/DWG-файл либо эскиз в формате PDF/DOCX), так и изготовление фотошаблона по топологии, разработанной нашими инженерами с нуля. В состав работ входит подготовка топологии для фотошаблона, подготовка данных для фотошаблона под конкретный генератор изображений, а также изготовление фотомасок по топологии с проверкой на технологичность и доведение фотошаблона до соответствия проектным нормам. Такой подход исключает ошибки на этапе перехода от электронной топологии к физическому шаблону.

Фотошаблоны для фотолитографии, микроэлектроники и полупроводниковых приборов

Мы производим фотошаблоны для контактной фотолитографии и фотошаблоны для проекционной фотолитографии, применяемые в производстве микросхем, схем функциональной электроники, тонкоплёночных, микрополосковых и СВЧ-плат. Изготовление фотошаблонов ведётся с учётом требований к стабильности рисунка во времени, высокой контрастности изображения и точности метрических размеров элементов.

Мы выполняем изготовление фотошаблонов любой степени сложности — от единичных тестовых образцов до комплектов шаблонов для серийного технологического процесса.

Фотошаблоны для печатных плат

Помимо фотошаблонов для полупроводникового производства, мы изготавливаем фотошаблоны для печатных  плат – выполняются в виде прецизионных стеклянных и кварцевых оригиналов. Изготовление фотошаблона печатной платы, выполняется под конкретный слой платы. Мы изготавливаем фотошаблоны для многослойных печатных плат с контролем стыковки полос и совмещения со смежными слоями.

Материалы подложек: кварц и стекло

Для прецизионных задач мы предлагаем кварцевые фотошаблоны. Фотошаблон на кварцевой подложке примечателен минимальным температурным расширением и подходит для самых жёстких допусков. Изготовление кварцевых фотошаблонов выполняется на подложках толщиной 2,2–6,4 мм и размерами 102–178 мм. Кварцевый фотошаблон для фотолитографии и кварцевый фотошаблон для микросхем — стандартное решение для проекционных степперов и сканеров.

Там, где требования к температурной стабильности ниже, применяются фотошаблоны на кальций-натрий-силикатном стекле (они же фотошаблоны на содово-известковом стекле) остаются экономичной альтернативой кварцу. В целом, фотошаблон на стеклянной подложке подходит для большинства задач фотолитографии. Изготовление стеклянных фотошаблонов у нас поставлено на поток и выполняется в короткие сроки (от одного рабочего дня).

Покрытия: хром, оксид хрома и оксид железа

Классический вариант — фотошаблон с хромовым покрытием. Изготовление хромовых фотошаблонов выполняется по слою металлического хрома с высокой оптической плотностью и стойкостью к истиранию при многократном контактном экспонировании.

Для снижения бликов, повышения точности фотолитографии и увеличения износостойкости используется фотошаблон с "тёмным"(низкоотражающим) хромом в качестве маскирующего покрытия, известный также как фотошаблон LRC (low reflective chrome). Фотошаблон с темным хромом состоит из слоя металлического хрома и низкоотражающего слоя. Фотошаблон  с "тёмным" хромом обеспечивает минимальный коэффициент отражения и максимальную контрастность рисунка при контроле совмещения.

Для ряда технологических процессов применяется фотошаблон с оксидом железа — железооксидный фотошаблон (железоокисный фотошаблон). Фотошаблон на железооксидной подложке востребован там, где требуется устойчивость к определённым травителям и растворителям фоторезиста, а также удобен в применении за счет полупрозрачной маски в видимом спектре. Изготовление железооксидных фотошаблонов, как и хромовых, выполняется на нашем оборудовании с полным контролем геометрии и оптической плотности рисунка.

Наши преимущества

• Полный цикл на одной площадке. От разработки топологии и подготовки данных до изготовления готового изделия и выходного контроля — без передачи заказа сторонним подрядчикам.

• Соответствие мировым стандартам SEMI Pxx. Точность метрических размеров элементов рисунка, стабильность рисунка во времени и высокая контрастность изображения подтверждены на практике.

• Современное оборудование. Лазерный многоканальный генератор изображений ЭМ-5189-02 обеспечивает минимальный элемент рисунка от 0,7 мкм и точность совмещения до ±70 нм.

• Любой тираж — от одного изделия. Берём в работу как единичные образцы для НИОКР и прототипирования, так и партии для серийного производства.

• Короткие сроки. Изготовление фотошаблонов на заказ — от одного рабочего дня без потери в качестве и точности.

• Широкая линейка материалов и покрытий. Кварцевые и стеклянные подложки, хром, тёмный/низкоотражающий/чёрный хром, оксид железа — подбираем решение под задачу и бюджет заказчика.

• Отраслевой опыт и профильная экспертиза. ОАО «МИНСКИЙ НИИ РАДИОМАТЕРИАЛОВ» — научно-производственное предприятие с собственной Отраслевой лабораторией проектирования и разработки фотошаблонов.

• Работа напрямую, без посредников. Прозрачное ценообразование и прямая коммуникация с инженерами на всех этапах — от технического задания до отгрузки готового фотошаблона.

Цена и как заказать фотошаблон

Стоимость фотошаблона зависит от материала подложки (кварц, стекло), типа покрытия (хром, тёмный/низкоотражающий/чёрный хром, оксид железа), размеров, минимального элемента рисунка, тиража, размеров рабочего поля и дефектности. Поэтому цена на изготовление фотошаблона рассчитываются индивидуально под каждый проект после получения топологии или технического задания. Чтобы уточнить стоимость фотошаблона и сроки, свяжитесь с нами по телефонам +375 17 270-96-15, +375 33 333-95-22  (пн–пт, 8:20–17:00) или по электронной почте marketing@mniirm.by.

Заказать фотошаблон в ОАО «МИНСКИЙ НИИ РАДИОМАТЕРИАЛОВ» — значит получить полный цикл услуг: от проектирования топологии до изготовления готового прецизионного шаблона на кварцевой или стеклянной подложке с нужным типом покрытия, в сроки от одного рабочего дня.

Вернуться